(Токопроводящее заднее покрытие): обычно состоит из нитрида хрома для уменьшения накопления статического электричества и облегчения удержания электростатического заряда.

Технология литографии является важной частью современного производства полупроводников, и ее передовой уровень напрямую определяет производительность и качество производства чипов. В этом докладе будет представлена ​​самая передовая технология литографии и обсуждено ее преобразование из традиционной в передовую.
I. TонHглаваEпредприятие
В настоящее время в области литографических технологий ведущими компаниями являются в основном голландская ASML, японская Nikon и Canon. Среди них ASML является крупнейшим в мире поставщиком литографических машин с долей рынка более 90%. Технология Extreme Ultraviolet (EUV) компании ASML в настоящее время является самой передовой литографической технологией и широко используется в производстве чипов.

II.ОбщепринятыйLитографияTтехники
Традиционные методы литографии в основном используют ультрафиолет (УФ) или глубокий ультрафиолет (ДУФ) в качестве источника света. Недостатком этой технологии является ограниченное разрешение, что затрудняет производство чипов с более высокой точностью и меньшей шириной линий. Кроме того, технология ДУФ требует использования дорогих литографических масок при производстве современных чипов, что увеличивает производственные затраты. Поэтому традиционная технология литографии больше не может удовлетворить потребности современного производства чипов.
II.Технология EUV
Технология EUV — это новый тип литографической технологии, ее источником света является экстремальный ультрафиолет (EUV), длина волны составляет всего 13,5 нанометров, что более чем в 10 раз короче длины волны технологии DUV. Это означает, что технология EUV имеет более высокое разрешение и меньшую ширину линии, что позволяет изготавливать более точные чипы. Кроме того, технология EUV требует использования только одной маски для изготовления чипов, что может значительно снизить производственные затраты.

Значительный прогресс был достигнут в применении технологии EUV в производстве микросхем. По данным IC Insights, в 2019 году доля технологии EUV составила 5% мирового рынка производства микросхем, в 2020 году она выросла до 13% и, как ожидается, достигнет 31% к 2024 году. По состоянию на 2022 год ASML поставила машины для литографии EUV более чем 40 производителям микросхем по всему миру, включая такие известные компании, как Samsung и Intel.


IV.Проблемы технологии EUV
Хотя применение технологии EUV в производстве чипов быстро развивается, оно все еще сталкивается с некоторыми проблемами. Во-первых, стоимость оборудования для технологии EUV высока, а стоимость машины для литографии EUV может достигать десятков миллионов долларов или даже выше, что не по карману некоторым небольшим предприятиям по производству чипов. Во-вторых, стабильность и надежность технологии EUV все еще нуждаются в улучшении, требуя более качественных источников света и масок, а также более точного проектирования и производства машин. Кроме того, необходимо повысить эффективность производства технологии EUV, а текущая почасовая производственная мощность далека от удовлетворения потребностей крупномасштабного производства чипов.

V. Перспективы на будущее
Хотя технология EUV все еще сталкивается с некоторыми проблемами, она стала основной тенденцией в современной области производства чипов, и перспективы ее будущего развития многообещающие. С непрерывным развитием науки и техники стоимость оборудования для технологии EUV будет постепенно снижаться, стабильность и надежность также будут улучшаться, а эффективность производства будет повышаться. Кроме того, в будущем могут появиться более продвинутые технологии литографии, такие как литография на основе фотонных кристаллов и технология самосборки, которые, как ожидается, еще больше улучшат точность изготовления и эффективность производства чипов.
В заключение следует отметить, что развитие технологии литографии имеет решающее значение для полупроводниковой промышленности, а технология EUV, как наиболее передовая технология литографии, широко используется и будет оставаться одной из основных тенденций в производстве микросхем в будущем.